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网络上一些技术大咖，所谓曾经在世界知名芯片制造大厂工作过的工程师们，他们断言：“世界上没有任何一个国家、任何一个公司能够独立的把芯片这个事给搞定。”
他们举例说：中国花了1万多亿人民币，也没有把芯片这件事搞定，为什么呢？是因为芯片太复杂，是人类历史上迄今为止最精密、最复杂的高技术产品。
荷兰阿斯麦公司之所以能够搞定，也是因为他集成了世界各国在光刻机各领域最先进、最优秀的技术和产品，最终才集成制造出了极紫外光光刻机，也就是EUV光刻机。
所以他们断言，中国凭自己不可能独立自主的发展出全世界领先的光刻机，制造出最好的芯片。这个判断成立吗？我个人认为是不成立的。
本人觉得他们做出这种判断的依据大约就两个：
一是光刻机太难了，难到只有世界最先进的工业国才配。中国根本不行、中国人不可能达到那种技术高度。说到底，这是对我们的工业基础不自信的表现。
二是他们认为光刻机太复杂了，复杂到要世界各国最聪明的人、技术最优秀的公司紧密合作才行，中国一个国家、中国目前这些企业不可能在所有的领域都做到最好。所以，还是不自信。
首先，我们确信的一点是，无论是光刻机还是芯片，他们毕竟是人造出来的、在市场上销售且有价格的商品。
既然是商品，怎么就只有外国人、外国企业才能造出来呢，怎么中国人、中国企业就不行呢，中国制造打破的纪录还少吗？
往前推四十年，当看到国际空间站、GPS导航、操作系统、波音空客大型民航客机时，当听说这巨大成就是全球采购的结果时，没有人不叹为观止的，可中国今天靠自己做到了。
再往前推四十年，中国到处充斥着洋油、洋布、洋火、洋车、洋轮、洋枪、洋炮还有洋人等等，谁能想到中国现在是世界第一制造业强国，是世界唯一一个拥有所有工业门类的国家呢。
放眼全球，社会生活的方方面面，你随便说一个或者想一个有技术含量的产品，中国制造肯定在前三之列，并且在最新前沿科技领域，中国制造、中国技术更是数一数二的存在。
现在你们又说，光刻机靠中国自己不行、不可能，这是被外国、被外国人吓住了吧。
不可否认，光刻机很难很复杂，ASML的EUV光刻机是全球顶级技术协同的产物，核心技术覆盖美、德、日、英、荷等多国，ASML的核心能力在于系统集成与供应链管控。
中国的光刻机制造技术与荷兰与这些工业、技术强国有较大的差距。这也是那些技术大咖们一直揪住不放的主要观点。
是呀，看看这些国家和公司，都是世界最顶尖的工业强国和高技术公司，但大家不要忘记，中国是拥有所有工业门类世界第一制造业强国，中国的工业制造技术也很强，中国在奋起直追。
中国的国土面积与整个欧洲相当，中国的人口足够多、应用场景足够丰富、市场足够多样、需求足够旺盛。为什么我们不能在所有的领域都成为最好的之一呢，并且当前的事实就是如此呀。
上海微电子的 DUV 光刻机已形成“90nm量产+28nm 浸没式突破”的产品梯队，2025年规模化量产，国内市占率超 80%，年出货量超 50 台。而全球芯片出货量，28nm及以上制程芯片占比达到了75%左右。中国已经掌握了关键的大多数。
2025年12月上海微电子的SSC800/10中标科技部订单，标志国产DUV进入商业化与科研验证双提速阶段；国内在核心部件、EUV 预研与特色工艺等方向同步取得关键进展。
中国在DUV、EUV等光刻机制造领域已呈全体系化发展，成效十分显著。科益虹源配套28nm DUV的光源，打破国外垄断。上海光机所EUV 光源进入测试。
华卓精科双工件台定位精度达1.7nm，已用于国产 DUV，打破荷兰ASML长期垄断。国科精密、国望光学的投影物镜，满足 28nm 及以下节点需求，光学元件国产化率显著提升。
深圳实验室 EUV原型机完成光源与光学验证，进入整机集成调试；清华EUV新型光源方案获《自然》认可，雄安相关设施启动，开辟非ASML的LPP路线新路径。
中国这片热土上，还分布着许多的高技术制造企业，他们也都在光刻机、芯片制造领域发挥自己的优势和着重要作用，他们就像中国制造天空中的星斗，熠熠生辉，未来必成燎原之势！
中国人、中国制造一定可以创造光刻机、芯片制造新的奇迹！
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